355nm UV ලේසර්
Uv ලේසර් ක්ෂුද්‍ර යන්ත්‍රකරණ යෙදුම්වල පැහැදිලි වාසි තුනක් ඇත:
●කෙටි තරංග ආයාමය ඉතා කුඩා කොටස් සැකසීමට භාවිතා කළ හැක.කදම්භ විවර්තන ආචරණය කොටස්වල අවම ප්‍රමාණය සීමා කිරීමට ප්‍රධාන හේතුවකි.
●ඉහළ ශක්තියක් ඇති ෆෝටෝනවලට ද්‍රව්‍ය තුළ ඇති අණුවල රසායනික බන්ධන කෙලින්ම විනාශ කළ හැකිය.මෙම ක්රියාවලිය "සීතල" සැකසුම් ක්රියාවලිය ලෙස හැඳින්වේ.දෘශ්‍ය ලේසර් සහ අධෝරක්ත ලේසර් සමඟ සසඳන විට, තාප බලපෑමට ලක් වූ කලාපය පාහේ නොසැලකිය හැකිය.
●ස්වභාවධර්මයේ බොහෝ ද්‍රව්‍යවලට පාරජම්බුල කිරණ අවශෝෂණය කරගත හැක, එහි ලක්ෂණ UV ලේසර් මඟින් දෘශ්‍ය ලේසර් සහ අධෝරක්ත ලේසර් සැකසුම් ද්‍රව්‍ය විශාල ප්‍රමාණයක් සැකසිය හැක.
●පුනරාවර්තන අනුපාතය වෙනස් කළ හැකිය
●බාහිර පාලනය කළ හැකි
●පහසු භාවිතය සහ නඩත්තුව නොමිලේ
●දිගුකාලීන මෙහෙයුම
●ඉහළ කාර්යක්ෂමතාව
●ඉහළ විශ්වසනීයත්වය
තාක්ෂණික දර්ශක
| ආදර්ශ අංකය | GT-355-50 |
| තරංග ආයාමය | 355+/-1nm |
| අවකාශීය මාදිලිය | TEM00 අසල |
| ප්රතිදාන බලය (සාමාන්ය) | >1, 5, 10,..., 50mW |
| මෙහෙයුම් ආකාරය | ස්පන්දන ලේසර් |
| තනි ස්පන්දන ශක්තිය | 1-10uJ |
| ස්පන්දන පළල | 5-10ns |
| උච්ච බලය | 100W~2KW |
| පුනරාවර්තන අනුපාතය | 1~10KHz |
| ධ්රැවීකරණය | >50:1 |
| බීම් පැල්ලම් හැඩය | චක්රලේඛය, දර්ශන අනුපාතය<1.1:1 |
| ස්ථායිතාව පෙන්වා දීම | <0.05 mrad |
| කදම්භ විෂ්කම්භය(1/e2) | 2 මි.මී |
| කදම්භ අපසරනය | <1.5 mrad |
| පාදයේ සිට කදම්භ උස | 45 මි.මී |
| බල ස්ථායිතාව* | පැය 4කට <±5% |
| උෂ්ණත්වය ස්ථායීකරණය | TEC |
| උණුසුම් කාලය | <විනාඩි 5ක් |
| ප්රශස්ත මෙහෙයුම් උෂ්ණත්වය | 20~30oc |
| ගබඩා උෂ්ණත්වය | 10~50oC |
| MTTF** | පැය 10,000 |
| මාන | 211(L)x88(W)x74(H) mm³ |
| බල සැපයුම | C. සකස් කළ හැකි රසායනාගාර වර්ගය : 178(W)x197(D)x84(H) mm³ |
ලේසර් හිස ඇඳීම
සකස් කළ හැකි රසායනාගාර වර්ගය
