පුළුල් පරාසයක කාර්මික, වෛද්‍ය සහ විද්‍යාත්මක යෙදුම් සඳහා 532 nm ලේසර් මූලාශ්‍ර.CW මෙහෙයුම් මාදිලියේ ලේසර් සඳහා, නිමැවුම් බලය 20 W දක්වා පවතී.Q-ස්විච් කරන ලද මෙහෙයුම් මාදිලි ලේසර් සඳහා, අධි බල ලේසර් ශ්‍රේණිය 500 W දක්වා ලබා ගත හැකි අතර, අධි ශක්ති ලේසර් ශ්‍රේණි 1000 mJ දක්වා පවතී.
-
532nm හරිත ලේසර්-20W
විශේෂාංග
ඝට්ටනය වූ සෘජු කදම්භයකි
පහසු භාවිතය සහ නඩත්තුව නොමිලේ
දිගුකාලීන මෙහෙයුම
ඉහළ කාර්යක්ෂමතාව
ඉහළ විශ්වසනීයත්වය
-
532nm හරිත ලේසර්-700mW
විශේෂාංග
කුඩා ප්රමාණය
ඝට්ටනය වූ සෘජු කදම්භයකි
සකස් කළ හැකි අවධානය
පහසු භාවිතය සහ නඩත්තුව නොමිලේ
දිගුකාලීන මෙහෙයුම
ඉහළ කාර්යක්ෂමතාව
ඉහළ විශ්වසනීයත්වය
අයදුම්පත්
ලේසර් සංදර්ශනය
ප්රදර්ශනය කරන්න
ලේසර් පෙළගැස්ම
ජෛව රසායනය පරිලෝකනය කිරීම
ද්රව්ය පරීක්ෂා ලිඩාර්
-
532nm හරිත ලේසර්-2000mW
විශේෂාංග
2W දක්වා අධි බල හරිත ලේසර්
පහසු භාවිතය සහ නඩත්තුව නොමිලේ
දිගුකාලීන මෙහෙයුම
ඉහළ කාර්යක්ෂමතාව
ඉහළ විශ්වසනීයත්වය
-
532nm හරිත ලේසර්-5W
විශේෂාංග
ඝට්ටනය වූ සෘජු කදම්භයකි
පහසු භාවිතය සහ නඩත්තුව නොමිලේ
දිගුකාලීන මෙහෙයුම
ඉහළ කාර්යක්ෂමතාව
ඉහළ විශ්වසනීයත්වය
-
532nm හරිත ලේසර්-15W
විශේෂාංග
ඝට්ටනය වූ සෘජු කදම්භයකි
පහසු භාවිතය සහ නඩත්තුව නොමිලේ
දිගුකාලීන මෙහෙයුම
ඉහළ කාර්යක්ෂමතාව
ඉහළ විශ්වසනීයත්වය
-
532 හරිත ලේසර්-10W
කෙටි ස්පන්දන පළල (<14ns@30K), උසස් කදම්භ ගුණාත්මකභාවය (M²<1.2) සහ පරිපූර්ණ ලේසර් ලප ගුණාත්මකභාවය (කදම්භ චක්‍රලේඛය >90%) සහිත ලේසර් බලයෙන් 5w/10w ආවරණය කරයි.පිඟන් මැටි කැණීමට සහ ලිවීමට, වීදුරු සහ වේෆර්වල සලකුණු කිරීමට, කැපීමට සහ කැණීමට සහ බොහෝ ලෝහ සහ ලෝහ නොවන ද්‍රව්‍යවල මතුපිට ප්‍රතිකාර සඳහා එය විශේෂයෙන් සුදුසු වේ.
-
532 හරිත ලේසර්-35W
කෙටි ස්පන්දන පළල (<25ns@50K), උසස් කදම්භ තත්ත්ව (M²<1.2) සහ පරිපූර්ණ ලේසර් ලප ගුණාත්මක (කදම්භ චක්‍රලේඛය> 90%) සහිත ලේසර් බලයෙන් 35w ආවරණය කරයි. එය වීදුරු සලකුණු කිරීම, තුනී පටල කැටයම් කිරීම සහ මතුපිට පිරියම් කිරීම සඳහා පරිපූර්ණ වේ. ලෝහ මතුපිට සිට ඔක්සයිඩ් ස්ථරය ඉවත් කිරීම වැනි බොහෝ ලෝහ සහ ලෝහ නොවන ද්රව්ය සඳහා
-
532 ඒකාබද්ධ හරිත ලේසර්-35W
කෙටි ස්පන්දන පළල (<7-8ns@40K) සමඟ ලේසර් බලයෙන් 18w-35w ආවරණය කරයි, උසස් කදම්භයේ ගුණාත්මකභාවය (M²<1.2) සහ පරිපූර්ණ ලේසර් ස්ථාන තත්ත්වය (කදම්භ චක්‍රලේඛය> 90%).පිඟන් මැටි කැණීම සහ ලිවීම, සලකුණු කිරීම, කැපීම සහ විදුම් වීදුරු සහ වේෆර් සහ බොහෝ ලෝහ සහ ලෝහ නොවන ද්‍රව්‍යවල මතුපිට පිරියම් කිරීම සඳහා එය විශේෂයෙන් සුදුසු වේ.
